Tự động hóa
- Hình ảnh AFM dễ dàng hơn, nhanh hơn và chính xác hơn:
-
Tự động thay đổi cần gạt (cantilever)
-
Tự động căn chỉnh chùm tia laser
-
Tối ưu hóa hình ảnh tự động với công nghệ RealTune® II
-
Tự động thực hiện phép đo AFM theo quy trình định sẵn (recipe)
Độ chính xác
-
Nâng cao độ chính xác trong các phép đo AFM:
-
Thiết kế dạng gập (flexure-based) mang lại chuyển động quét phẳng và vuông góc vượt trội
-
Bộ quét vòng kín (closed-loop) giúp tạo ảnh với độ tuyến tính và độ chính xác cao
-
Độ nhiễu cảm biến thấp cho phép thu được hình ảnh có độ phân giải và chất lượng cao
-
Khả năng đánh giá đầu dò giúp đảm bảo chất lượng đầu dò và hình ảnh không bị nhiễu dạng (artifact)
Quét Phẳng (Flat Scan)
Các hệ kính hiển vi lực điện tử thông thường sử dụng bộ quét ống gốm áp điện (piezoelectric tube scanner) thường yêu cầu xử lý làm phẳng hoặc cân bằng dữ liệu do chuyển động cong vốn có của thiết bị. Tuy nhiên, quá trình làm phẳng này có thể gây biến dạng cấu trúc vi mô bề mặt mẫu, bao gồm cả giá trị chiều cao Z.
Kính hiển vi lực điện tử AFM5500MⅡ được trang bị bộ quét dựa trên cơ cấu gập (flexure-based scanner) hoàn toàn mới, cho phép quét dạng lưới (raster scan) được kiểm soát chính xác chỉ theo hai phương X và Y. Nhờ thiết kế tiên tiến này, thiết bị có thể loại bỏ hiệu quả độ cong nền trong vùng quét rộng, từ đó nâng cao độ chính xác trong các phép đo AFM.
Tính trực giao cao (High Orthogonality)
Việc sử dụng bộ quét ống gốm áp điện thông thường có thể gây hiện tượng nhiễu chéo (cross-talk) khi ống bị uốn cong trong quá trình quét.
Hiện tượng nhiễu chéo này dẫn đến biến dạng và mất đối xứng trong dữ liệu thu được.
Bộ quét cải tiến của AFM5500MⅡ giúp giảm thiểu đáng kể nhiễu chéo, cho phép thực hiện các phép đo chính xác và đối xứng
Đo đạc AFM và SEM trên cùng một vùng mẫu (Mẫu: Graphene/SiO₂)
Hình ảnh chồng lớp giữa SEM, AFM (địa hình bề mặt), và KFM (thế điện bề mặt)
Từ các phép đo chiều cao theo mặt cắt ngang bằng AFM, có thể kết luận rằng sự khác biệt về độ tương phản trong ảnh SEM tương ứng với sự thay đổi số lớp graphene trong ảnh AFM.
Điều này cho thấy thế điện bề mặt (hàm công – work function) của các tấm graphene phụ thuộc mạnh vào độ dày mẫu, tức là số lớp graphene.
Dữ liệu địa hình 3D có độ chính xác cao, kết hợp với các phép đo đặc tính điện, cung cấp bằng chứng mạnh mẽ để xác định nguyên nhân gốc rễ của các biến thiên tương phản trong ảnh SEM.
Hitachi High-Tech Science sẽ tiếp tục phát triển các hệ thống AFM tích hợp với các loại kính hiển vi và thiết bị kiểm tra khác.
