Hệ thống lắng đọng màng mỏng Kurt J. Lesker PRO Line PVD 75

Mô tả

Kurt J. Lesker PRO Line PVD 75 là hệ thống lắng đọng màng mỏng (PVD – lắng động hơi vật lý) thế hệ mới, được phát triển từ nền tảng PVD 75 đã chứng minh hiệu quả trên toàn cầu. Hệ thống mang đến hiệu suất chân không vượt trội, thời gian pump-down nhanh, khả năng tùy biến cao và độ ổn định lâu dài. Đây là giải pháp toàn diện cho nghiên cứu và sản xuất màng mỏng trong nhiều lĩnh vực công nghệ cao.

1. Cấu tạo và thiết kế

• Buồng chân không (Vacuum Chamber):
  • Chất liệu: thép không gỉ 304L, có độ bền và khả năng chống ăn mòn cao.
  • Kích thước bên trong: 15.25″ × 16.50″ × 24″ (~387 × 419 × 610 mm).
  • Thể tích buồng khoảng 100 L, phù hợp cho nhiều loại substrate từ nhỏ đến trung bình.
  • Cửa trước bằng nhôm, bản lề chắc chắn, kín bằng O-ring; hai mặt bên tháo rời được, thuận tiện mở rộng và nâng cấp.
• Thiết kế mô-đun:
  • Cho phép cấu hình theo nhu cầu: có thể lắp đặt thêm magnetron sputtering, nguồn thermal, nguồn e-beam hoặc LTE evaporation.
  • Có sẵn tùy chọn load lock (ngăn nạp mẫu), giúp đưa mẫu vào/ra mà không làm mất chân không của buồng chính.
• Substrate holder:
  • Có khả năng xoay để đảm bảo độ đồng đều màng.
  • Tích hợp gia nhiệt đến 800 °C, làm mát bằng nước, và RF biasing để cải thiện chất lượng màng.

2. Thông số kỹ thuật chính

• Phương pháp deposition: Sputtering (TORUS Mag-Keeper™), Thermal, Electron Beam, LTE (Organic).
• Số nguồn hỗ trợ:
  • Sputter: tối đa 6 nguồn (2″/3″) hoặc 4 nguồn (4″)
  • Thermal: tối đa 4 nguồn
  • E-beam: 4-pocket (8 cc), 8-pocket (12 cc), 6-pocket (20 cc)
  • LTE: tối đa 2 nguồn LTE10
• Định hướng deposition: Sputtering: up, down, side; Thermal/E-beam/LTE: hướng lên (up)
• Nguồn điện hỗ trợ: DC, pulsed DC (PDC), RF, MF, HiPIMS.
• Substrate handling: Xoay, gia nhiệt 800 °C, làm mát, RF biasing
• Hệ thống bơm chân không: turbomolecular 790 L/s hoặc cryopump 1500 L/s.
• Phần mềm điều khiển: eKLipse™/CWare, hỗ trợ recipe tự động, giám sát thời gian thực.
• Tùy chọn nâng cao: Load lock, dome shutter, kiểm soát độ dày màng, plasma pre-clean, automation

3. Tính năng nổi bật

• Đa dạng kỹ thuật lắng đọng: hỗ trợ sputtering, thermal, e-beam và LTE evaporation trên cùng nền tảng.
• Hiệu suất chân không cao: nhờ thiết kế tối ưu, sử dụng turbo hoặc cryo pump, giảm thời gian hút khí và đạt áp suất nền rất thấp.
• Thiết kế mô-đun linh hoạt: dễ dàng mở rộng, tùy biến theo nhu cầu nghiên cứu hoặc sản xuất.
• Điều khiển thông minh: phần mềm eKLipse™/CWare cho phép lập trình quy trình (recipe), giám sát thời gian thực và tự động hóa cao.
• Tùy chọn load lock: nạp mẫu nhanh, giảm ô nhiễm, nâng cao hiệu quả vận hành.
• Gia nhiệt đế mẫu tới 800 °C: đáp ứng nghiên cứu vật liệu đòi hỏi nhiệt cao.
• Dome shutter: ngăn nhiễm chéo giữa các nguồn vật liệu, giúp màng sạch và tinh khiết hơn.
• Tích hợp đo độ dày màng: đảm bảo lớp phủ chính xác, tái lập ổn định.

4. Ứng dụng

PRO Line PVD 75 được ứng dụng rộng rãi trong nhiều lĩnh vực công nghệ cao:

• Nghiên cứu & phát triển (R&D): vật liệu mới, cấu trúc nano, lớp phủ chức năng.
• Bán dẫn & vi điện tử: lắng đọng màng dẫn, bán dẫn, điện môi trong chế tạo chip và cảm biến.
• OLED/PLED & vật liệu hữu cơ: lắng đọng vật liệu hữu cơ nhạy cảm trong điều kiện chân không cao.
• Năng lượng mặt trời: màng mỏng cho pin mặt trời (CIGS, perovskite, thin-film silicon).
• Quang học: lớp phủ chống phản xạ, gương phản xạ, màng lọc quang học.
• Lớp phủ trang trí & chức năng: kim loại quý, hợp kim, lớp bảo vệ chống mài mòn, chống oxy hóa.

Với cấu hình mạnh mẽ, tính linh hoạt cao và khả năng vận hành ổn định, Kurt J. Lesker PRO Line PVD 75 là lựa chọn hàng đầu cho các phòng thí nghiệm nghiên cứu, viện công nghệ và doanh nghiệp sản xuất trong ngành vật liệu tiên tiến, bán dẫn và quang điện tử.

Để tìm hiểu thêm thông tin chi tiết về sản phẩm vui lòng liên hệ chúng tôi để được tư vấn trực tiếp.